sidewall spacer用途
2011年8月5日—侧墙的形成主要有两步:1.在薄膜区利用化学气相淀积设备淀积一层二氧化硅。2.然后利用干法刻蚀工艺刻掉这层二氧化硅。由于所用的各向异性,刻蚀工具使用 ...,,由李明才著作·1991—目的在於避免對準上的困難。側壁間隔是利用反應離子蝕刻的非等向性蝕刻...
第十章介電質薄膜SiO , Si N
- LDD 半導體
- photo spacer製程
- pocket implant
- vls成長機制
- spacer 墊片
- pdlc優缺點
- corner rounding半導體
- NAPT 半導體
- 半導體心得
- polysilicon半導體
- spacer 製作方式
- sidewall spacer用途
- spacer用途
- spacer用途
- cell gap量測
- photo spacer中文
- polysilicon半導體
- sti淺溝槽
- sab半導體
- sidewall spacer用途
- photo spacer
- dibl原理
- gidl半導體
- photo spacer
- spacer用途
Sidewall.Spacer,USG.PMDBarrier.Nitride.IMD3.Passivation1.Passivation2...•Al-Si-Cu合金被使用.•Al-Cu(0.5%)較普遍.Page10.19.鈦之應用.Ti.PSG.
** 本站引用參考文章部分資訊,基於少量部分引用原則,為了避免造成過多外部連結,保留參考來源資訊而不直接連結,也請見諒 **